WTi
Saflık
Saflık, hedef malzemenin ana performans göstergelerinden biridir, çünkü hedef malzemenin saflığı filmin performansı üzerinde büyük bir etkiye sahiptir. Ancak pratik uygulamalarda hedef malzemeler için saflık gereksinimleri de farklıdır. Örneğin, mikroelektronik endüstrisinin hızlı gelişimiyle birlikte silikon gofretlerin boyutu 6", 8"den 12"ye çıkarken, kablolama genişliği 0.5um'dan 0.25um, 0.18um veya hatta 0.13um'a düşürülmüştür. Önceki hedef saflığı %99,995 idi. 0.35umIC'nin işlem gereksinimlerini karşılayabilir, ancak 0.18um hatlarını hazırlamak için gereken hedef saflığı %99,999 veya hatta %99,9999'dur.
Tungsten Püskürtme Hedefi Tedarikçisi
Safsızlık içeriği
Hedef katıdaki safsızlıklar ve gözeneklerdeki oksijen ve su buharı, biriktirilen filmler için ana kirlilik kaynaklarıdır. Farklı kullanımlar için hedef malzemeler ayrıca farklı safsızlık içerikleri için farklı gereksinimlere sahiptir. Örneğin, yarı iletken endüstrisinde kullanılan saf alüminyum ve alüminyum alaşımlı hedefler, alkali metal içeriği ve radyoaktif element içeriği için özel gereksinimlere sahiptir.
Yoğunluk
Katı hedef malzemedeki gözenekleri azaltmak ve püskürtülmüş filmin performansını iyileştirmek için, hedef malzemenin genellikle daha yüksek bir yoğunluğa sahip olması gerekir. Hedefin yoğunluğu yalnızca püskürtme hızını etkilemekle kalmaz, aynı zamanda filmin elektriksel ve optik özelliklerini de etkiler. Hedef yoğunluğu ne kadar yüksekse, filmin performansı o kadar iyi olur. Ayrıca, hedef malzemenin yoğunluğunu ve mukavemetini artırmak, hedef malzemenin püskürtme işlemi sırasında termal strese daha iyi dayanmasını sağlar. Yoğunluk aynı zamanda hedef malzemelerin temel performans göstergelerinden biridir.
Tungsten Püskürtme Hedefi imalatı
Tane boyutu ve tane boyutu dağılımı
Genellikle hedef malzeme polikristalin bir yapıya sahiptir ve tane boyutu mikrondan milimetreye kadar değişebilir. Aynı hedef malzeme için, ince taneli bir hedefin püskürtme hızı, kaba taneli bir hedefin püskürtme hızından daha hızlıdır; daha küçük tane boyutu farkına (üniform dağılım) sahip bir hedef ise püskürtme ile biriktirilen filmin daha homojen bir kalınlık dağılımına sahip olacaktır.
